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每個產(chǎn)品都不希望產(chǎn)品表面不均勻、坑坑洼洼的面部，所以硅膠產(chǎn)品的表面光潔度很重要。硅膠產(chǎn)品主模拋光方法主要是降低模具鋼表面的粗糙度。要真正保證硅膠產(chǎn)品的表面光潔度，還需要從模具工藝入手，那么硅膠模具的表面光潔度工藝有哪些處理方法呢？

模具拋光可分為多種工藝方法，硅膠模具采用不同的處理方法，其中以下表面處理方法是常見的工藝！

電解拋光：

電解拋光依靠選擇性溶解材料表面的微小突出部分，使表面光滑。與化學拋光相比，它能消除陰極反應的影響，效果更好。電化學拋光過程分為兩個步驟：

(1)宏觀整平溶解產(chǎn)物擴散到電解液中，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm。

(2)微光平整陽極化，表面光亮度提高，Ra1μm。

機械拋光：

機械拋光是通過切割材料表面的塑性變形來去除拋光后的凸面，得到光滑表面的拋光方法。一般采用油石條、羊毛輪、砂紙等。，主要是手動操作。特殊零件，如旋轉體表面，可使用轉臺等輔助工具。對于表面質(zhì)量要求高的，可采用超精研磨拋光法。超精研磨是一種特殊的磨具，在含有磨料的研磨液中壓在工件的加工表面，進行高速旋轉運動。該技術可達到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的。

超聲波拋光：

超聲波拋光是以超聲波為動力，以極高的速度推動小磨粒沖擊工件表面，迫使磨料加工加工表面，從而降低其表面粗糙度的拋光方法。

流體拋光：

流體拋光依靠高速流動的液體及其磨粒沖刷工件表面，達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨由液壓驅動，使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復流過工件表面。介質(zhì)主要由低壓下流動性好的特殊化合物和磨料制成，磨料可以是碳化硅粉末。

磁研磨拋光:

磁磨拋光是利用磁磨在磁場作用下形成磨刷，磨削工件。該方法加工效率高，質(zhì)量好，加工條件易于控制，工作條件好。使用合適的磨料，表面粗糙度可達到Ra0.1μm。

在硅膠制品制造商模具拋光清潔度取決于產(chǎn)品的外觀質(zhì)量，所以拋光過程是一個重要的過程，與其他行業(yè)拋光過程不同，模具拋光也是提高硅橡膠產(chǎn)品加工效率和產(chǎn)品質(zhì)量等，所以您購買硅膠產(chǎn)品表面清潔度正式取決于模具拋光過程！